Мишени и катоды из резистивных сплавов

Совместно с белорусским институтом ГНУ ИПМ ОХП "НИИИП с ОП" разработана и успешно введена в производство технология изготовления резистивных мишеней методом импульсного прессования на базе силицидов. Особенностью данной технологии является совмещение технологии плавленных изделий и технологии импульсного прессования. Макроструктура мишеней представляет собой компактированные гранулы плавленного материала с низкой удельной поверхностью, при этом сами гранулы состоят из мелких зерен, образующихся в процессе импульсного прессования. Максимальные размеры целых мишеней: пластины - до 450 мм; диска - до 180 мм. Мишени успешно прошли испытания на предприятиях электронной промышленности.

Номенклатура резистивных мишеней.

Помимо мишеней на базе стандартных резистивных сплавов ООО "Лаб-3" предлагает широкий спектр изделий на основе чистых силицидов вольфрама, молибдена, титана, никеля, кобальта, ниобия, танала и др.